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描述:H 型光电反应釜能够实现控温耐高压操作,耐压 10MPa,采用 316L 不 锈钢釜体,内部与溶液可能接触的部位喷涂 PFA,保证了耐高温<200℃;温度控制采用的夹 层水浴或油浴控制,热传导速度快。
厂商性质
生产厂家更新时间
2023-11-03访问量
1122品牌 | 其他品牌 | 产地类别 | 国产 |
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应用领域 | 医疗卫生,环保,食品,化工,生物产业 |
项目 | 参数 |
光电反应釜 | 316L 耐腐蚀不锈钢,内部全部喷涂 PTFE H 型双室反应体系,单室可单独使用,单室容积 100ml |
耐压 | <10MPa,含进出气体阀门 |
温度 | <100℃(水浴控温),<200℃(油浴控温),控温精度 0.1℃釜体内部 标配控温夹层,内部测温采用 Pt100,含温度显示表;通水孔 12mm |
电极 | PEEK 三电极(标配),选配进口耐高温耐压参比电极 |
通光孔 | Φ40mm,蓝宝石(全光谱高透),双通光孔 |
要求离子膜规格 | 直径 50mm |
阀门 | 岩征仪器高温高压针阀 |
密封 | 耐高温密封圈 |
光源(选配) | 氙灯光源、LED 光源、汞灯光源 |
控温循环机 (选配) | 循环控制系统 |